28纳米低功耗工艺(28nmLP, 28nm SION), 采用多种提升应力工艺导入, 能够有效增加器件效能并且缩小芯片尺寸,
并针对有高速需求之客户提供产品应用. 28纳米低功耗工艺相比于40纳米工艺漏电减少30%. 工艺技术提供0.9V/1.8V
(2.5V)标准工作电压.目标产品广泛应用于智能手机,智能电视,机顶盒,车用电子,消费型电子,互联网芯片.
